一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污水排放收集領(lǐng)域，尤其涉及一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置。

背景技術(shù)

在化學、生物化學、醫(yī)療和制藥等領(lǐng)域的潔凈室，當要求有具備有防外界電磁干擾功能。目前，為了避免外界的電磁波干擾潔凈室，常把衛(wèi)生間設(shè)置在潔凈室外部或者將污水暫存在潔凈室內(nèi)，這樣非常不便于科研工作者的日常工作。

根據(jù)電磁波傳輸特性，電磁波在生活污水中傳輸時必然會造成嚴重的衰減，然而由于污水間斷排放的特點使得污水排放管線很容易成為電磁波傳遞的通道，基于此，生活污水等此類含有較多雜質(zhì)水的管線進出此類特殊潔凈室便成為設(shè)計關(guān)鍵點。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置，解決避免電磁波通過排污管道進入到潔凈室內(nèi)部的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明一種防電磁干擾的特殊潔凈室，包括潔凈室，所述潔凈室的外層封閉圍合有電磁防護層，所述潔凈室的中部設(shè)置有土建結(jié)構(gòu)板,所述土建結(jié)構(gòu)板的頂面鋪設(shè)有中間隔斷電磁防護層，中間隔斷電磁防護層將所述潔凈室分為上下兩個單獨的屏蔽空間，上方的屏蔽空間為科研工作者的日常工作活動空間，下方的屏蔽空間為污水排放收集裝置的存放空間。

一種用于上述防電磁干擾的特殊潔凈室的污水排放收集裝置，包括儲污箱體、排污泵控制柜和多臺自帶鉸刀型的排污泵；所述儲污箱體的外壁封閉圍合有電磁防護層；

所述儲污箱體的頂部設(shè)置有污水接納防護管道，所述污水接納防護管道的上端口設(shè)置有污水接納預(yù)留法蘭接口，所述污水接納防護管道的下端口延伸至所述儲污箱體的內(nèi)部；

所述污水接納預(yù)留法蘭接口通過螺栓組件與潔凈室排污防護管道的接口安裝連通，所述潔凈室排污防護管道預(yù)設(shè)在所述土建結(jié)構(gòu)板上，所述污水接納預(yù)留法蘭接口與所述潔凈室排污防護管道的接口之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊；

各所述排污泵均位于所述儲污箱體的內(nèi)部，并且各所述排污泵的排污口通過管道均與設(shè)置在所述儲污箱體內(nèi)部的排污總管道連通，所述排污總管道的排污口貫穿所述儲污箱體上部的側(cè)壁后延伸至外側(cè)；

所述排污泵控制柜位于所述儲污箱體的外部并通過導(dǎo)線與各所述排污泵電連接。

進一步的，所述儲污箱體內(nèi)部設(shè)置有液位探測傳感器，所述液位探測傳感器通過導(dǎo)線與所述排污泵控制柜電連接。

進一步的，所述排污泵的數(shù)量設(shè)置為兩個，所述液位探測傳感器設(shè)置有三個液位值，分別為H?0、H?1和H?2，所述H?0、H?1和H?2的液位設(shè)定值依次升高，并且所述H?0為停泵液位值；

所述污水接納防護管道的下端口低于所述H?0，并且距離所述H?0的高度差為ΔH，所述ΔH不小于0.5m；

當所述儲污箱體中的污水液面到達H?1時，單臺所述排污泵工作或者兩臺所述排污泵交替單獨工作，當所述儲污箱體中的污水液面到達H?2時，兩臺所述排污泵同時工作。

進一步的，所述儲污箱體的頂部設(shè)置有通氣口和人孔屏蔽門。

進一步的，所述通氣口通過通氣延伸管道與外界連通，所述通氣延伸管道的外端口上設(shè)置有蜂窩波導(dǎo)窗；

所述通氣延伸管道與所述通氣口的法蘭安裝端面之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊。

進一步的，所述排污總管道通過排污延伸管道與位于外界的類P型彎管連通，所述排污延伸管道與所述排污總管道、類P型彎管的法蘭安裝端面之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊；

所述類P型彎管包括連通在一起的U形水封部和增高部，所述U形水封部的高度為H?3，增高部的高度為H?4，所述U形水封部的一端口與所述排污延伸管道連通；

所述H?3不小于0.25m，所述H?4不小于0.3m。

進一步的，所述通氣延伸管道和排污延伸管道均采用不銹鋼管，所述通氣延伸管道和排污延伸管道與所述潔凈室電磁防護層的貫穿節(jié)點處焊接有第一電磁防護加強板。

進一步的，所述潔凈室排污防護管道與所述土建結(jié)構(gòu)板的貫穿節(jié)點處焊接有第二電磁防護加強板。

進一步的，所述儲污箱體內(nèi)腔的底部設(shè)置有坡面，所述污水接納防護管道的下端口位于所述坡面的高處，各所述排污泵均位于所述坡面的低處。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益技術(shù)效果：

本發(fā)明一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置，該潔凈室主要由潔凈室電磁防護層圍合而成，在其圍合的空間中部設(shè)置有土建結(jié)構(gòu)板，土建結(jié)構(gòu)板的頂面鋪設(shè)有中間隔斷電磁防護層，中間隔斷電磁防護層將潔凈室分為上下兩個單獨的屏蔽空間，上方的屏蔽空間為科研工作者的日常工作活動空間，下方的屏蔽空間為污水排放收集裝置的存放空間；污水排放收集裝置主要包括儲污箱體、排污泵控制柜和多臺排污泵，潔凈室中污水管線通過潔凈室排污防護管道、污水接納防護管道進入到儲污箱體中，潔凈室排污防護管道延伸到污水面以下，有效的阻擋了電磁輻射，不銹鋼管在進、出電磁防護層節(jié)點處設(shè)置有厚方形鍍鋅鋼板作為過渡，從而使得不銹鋼管與電磁防護層致密連接，避免電磁波在此處進入；在污水排放過程中，U形水封部有效的保證有一高度的水封，從而實現(xiàn)室內(nèi)、外電磁阻斷效果；總之，本發(fā)明有效的阻止了電磁波通過排污管道進入到潔凈室內(nèi)部，為未來大型潔凈室規(guī)劃設(shè)計中污水排放問題提供解決思路，另外，成套污水排放裝置的使用也提升了系統(tǒng)排水穩(wěn)定性、縮短工程進度及延長了工程使用壽命。

附圖說明

下面結(jié)合附圖說明對本發(fā)明作進一步說明。

圖1為設(shè)置有污水排放收集裝置的潔凈室；

圖2為污水排放收集裝置右視圖；

圖3為圖1的A處的局部放大圖；

圖4為圖1的B處的局部放大圖；

圖5為圖1的C處的局部放大圖。

附圖標記說明：1、儲污箱體；2、排污泵控制柜；3、排污泵；4、污水接納防護管道；5、潔凈室排污防護管道；6、土建結(jié)構(gòu)板；7、污水接納預(yù)留法蘭接口；8、排污總管道；9、液位探測傳感器；10、通氣口；11、人孔屏蔽門；12、通氣延伸管道；13、蜂窩波導(dǎo)窗；14、排污延伸管道；15、類P型彎管；1501、U形水封部；1502、增高部；16、潔凈室；17、第一電磁防護加強板；18、第二電磁防護加強板；19、坡面。

具體實施方式

為了使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步的詳細說明。

如圖1所示，本實施例中公開了一種具備防電磁干擾的特殊潔凈室，包括潔凈室16，所述潔凈室16的外層封閉圍合有電磁防護層，所述潔凈室16的中部設(shè)置有土建結(jié)構(gòu)板6,所述土建結(jié)構(gòu)板6的頂面鋪設(shè)有中間隔斷電磁防護層，中間隔斷電磁防護層將所述潔凈室16分為上下兩個單獨的屏蔽空間，上方的屏蔽空間為科研工作者的日常工作活動空間，下方的屏蔽空間為污水排放收集裝置的存放空間。土建結(jié)構(gòu)板6可為現(xiàn)澆混凝土板或預(yù)制鋼筋混凝土板。

如圖1和2所示，本實施例中還公開了一種污水排放收集裝置，包括儲污箱體1、排污泵控制柜2和多臺自帶鉸刀型的排污泵3。儲污箱體1的外壁封閉圍合有電磁防護層。

儲污箱體1的頂部固定有污水接納防護管道4，污水接納防護管道4與儲污箱體1外部的電磁防護層緊密焊接，污水接納防護管道4的上端口焊接有污水接納預(yù)留法蘭接口7，污水接納防護管道4的下端口延伸至儲污箱體1的內(nèi)部。

如圖3所示，污水接納預(yù)留法蘭接口7通過螺栓組件與潔凈室排污防護管道5的接口安裝連通，潔凈室排污防護管道5預(yù)設(shè)在土建結(jié)構(gòu)板6上，污水接納預(yù)留法蘭接口7與潔凈室排污防護管道5的接口之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊。導(dǎo)電襯墊又稱EMI襯墊，常填充于電子設(shè)備機箱縫隙處，能夠保持縫隙處的導(dǎo)電連續(xù)性，減小孔洞、縫隙、溝槽處的接觸電阻，從而降低接合處兩端的電壓，減小縫隙的電磁泄漏，導(dǎo)電襯墊屬于現(xiàn)有產(chǎn)品，在此不再贅述。潔凈室中污水管線通過潔凈室排污防護管道5、污水接納防護管道4進入到儲污箱體1中，污水管線的下端口與污水接納防護管道4的下端口平齊。

各排污泵3均位于儲污箱體1的內(nèi)部，并且各排污泵3的排污口通過管道均與設(shè)置在儲污箱體1內(nèi)部的排污總管道8連通，排污總管道8的排污口貫穿儲污箱體1上部的側(cè)壁后延伸至外側(cè)，排污總管道8與儲污箱體1固定并與外部電磁防護層的貫穿連接處采用焊接密封。

為了便于排污泵3排出污水，在儲污箱體1內(nèi)腔的底部設(shè)置有坡面19，污水接納防護管道4的下端口位于坡面19的高處，各排污泵3均位于坡面19的低處。

排污泵控制柜2位于儲污箱體1的外部并通過導(dǎo)線與各排污泵3電連接。儲污箱體1內(nèi)部設(shè)置有液位探測傳感器9，液位探測傳感器9通過導(dǎo)線與排污泵控制柜2電連接。液位探測傳感器9監(jiān)測儲污箱體1中污水液面變化，并將電信號反饋給排污泵控制柜2，排污泵控制柜2自動控制排污泵3啟動進行排污工作。

在本實施例中，排污泵3的數(shù)量設(shè)置為兩個，液位探測傳感器9設(shè)置有三個液位值，分別為H?0、H?1和H?2，H?0、H?1和H?2的液位設(shè)定值依次升高，且H?0為停泵液位值，當污水液位到達H?0液位時，各排污泵3停止工作。污水接納防護管道4的下端口低于H?0，并且距離H?0的高度差為ΔH。

ΔH因潔凈室達到的屏蔽效能不同而不同，同時受污水導(dǎo)電性質(zhì)差異影響。故應(yīng)根據(jù)屏蔽設(shè)計單位現(xiàn)場試驗后確定設(shè)備及存水彎內(nèi)水封高度。通常室內(nèi)與室外間水封長度不宜小于0.5m。

當儲污箱體1中的污水液面到達H?1時，單臺排污泵3工作或者兩臺排污泵3交替單獨工作，當儲污箱體1中的污水液面到達H?2時，兩臺排污泵3同時工作。

H?0、H?1和H?2的設(shè)定值應(yīng)根據(jù)工程實際排污量經(jīng)過計算后確定。通常H?0的設(shè)置除應(yīng)滿足ΔH水封高度要求還應(yīng)考慮防護管道4底部距離池底的防堵距離(不小于0.5m)，綜合H?0應(yīng)不宜小于1.0m。H?1與H?0之間污水容積不宜小于單泵啟動5min出水量，且污水泵每小時啟動次數(shù)不宜超過6次。H?1與H?2之間污水容積不宜小于雙泵啟動5min出水量，且污水泵每小時啟動次數(shù)不宜超過6次。

儲污箱體1的頂部設(shè)置有通氣口10和人孔屏蔽門11，通氣口10與儲污箱體1固定并與外圍電磁防護層緊密焊接。進一步，通氣口10通過通氣延伸管道12與外界連通，通氣延伸管道12與通氣口10的法蘭安裝端面之間同樣設(shè)置有導(dǎo)電襯墊。通氣延伸管道12的外端口上設(shè)置有蜂窩波導(dǎo)窗13，蜂窩波導(dǎo)窗13阻斷電磁波從通氣延伸管道12的外端口通過。

排污總管道8通過排污延伸管道14與位于外界的類P型彎管15連通，排污延伸管道14與排污總管道8、類P型彎管15的法蘭安裝端面之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊。

類P型彎管15包括連通在一起的U形水封部1501和增高部1502，U形水封部1501和增高部1502經(jīng)一體加工制得，U形水封部1501的高度為H?3，增高部1502的高度為H?4，U形水封部1501的一端口與排污延伸管道14連通。

在污水排放過程中，U形水封部1501有效的保證有一高度為H?3的水封，從而實現(xiàn)室內(nèi)、外電磁阻斷效果。

增高部1502的高度為H?4，為避免潛污泵運行不穩(wěn)定而引起水封高度損失而設(shè)置的超高。因控制系統(tǒng)實際使用中不穩(wěn)定，排污泵未及時停止從而引起水封高度H?3損失，故考慮設(shè)置超高H?4，排污泵停止工作后，增高部1502中的污水回流補充到U形水封部1501中，避免水封高度H?3高度的損失。

H?3因潔凈室達到的屏蔽效能不同而不同，同時受污水導(dǎo)電性質(zhì)差異影響。故應(yīng)根據(jù)屏蔽設(shè)計單位現(xiàn)場試驗后確定設(shè)備及存水彎內(nèi)水封高度。通常室內(nèi)與室外間水封長度不宜小于0.5m，即H?3不小于0.25m，H?4不小于0.3m。

如圖1和5所示，在本實施例中，通氣延伸管道12和排污延伸管道14均采用不銹鋼管，通氣延伸管道12和排污延伸管道14與潔凈室16的電磁防護層的貫穿節(jié)點處焊接有第一電磁防護加強板17。在本實施例中，第一電磁防護加強板17采用5mm厚方形鍍鋅鋼板，該方形鍍鋅鋼板上設(shè)置有避讓孔，避讓孔與通氣延伸管道12或者排污延伸管道14的外壁環(huán)形滿焊，該方形鍍鋅鋼板的外圈與潔凈室16的電磁防護層焊接。第一電磁防護加強板17作為過渡，從而使得不銹鋼管與電磁防護層致密連接，避免電磁波在此處進入。

如圖1和4所示，潔凈室排污防護管道5與潔凈室底部的土建結(jié)構(gòu)板6電磁防護層的貫穿節(jié)點處焊接有第二電磁防護加強板18。第二電磁防護加強板18與第一電磁防護加強板17的結(jié)構(gòu)和功能相同，第二電磁防護加強板18也采用5mm厚方形鍍鋅鋼板。需要說明的是，第一電磁防護加強板17、第二電磁防護加強板18在制作時，其鋼板邊長為相對應(yīng)管道直徑的二倍。

以上所述的實施例僅是對本發(fā)明的優(yōu)選方式進行描述，并非對本發(fā)明的范圍進行限定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對本發(fā)明的技術(shù)方案做出的各種變形和改進，均應(yīng)落入本發(fā)明權(quán)利要求書確定的保護范圍內(nèi)。